-
Al2O3 keraamilise vahvlipadruni kohandatud töötlemine
Külmast isostaatilisest pressimisest ja kõrgel temperatuuril paagutamisest valmistatud, seejärel täppistöödeldud ja poleeritud keraamilised varuosad vastavad pooljuhtseadmete rangetele nõuetele oma kulumiskindluse, korrosioonikindluse, väikese soojuspaisumise ja isolatsiooni omaduste tõttu. Keraamika sobib pikka aega mitmesuguste pooljuhtide tootmisseadmete jaoks, mis taluvad kõrget temperatuuri, vaakumit või söövitavat gaasi.
Valmistatud kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidi pulbrist, töödeldud külmisostaatilise pressimise, kõrgtemperatuurse paagutamise ja täppisviimistluse teel, võib see saavutada mõõtmete tolerantsi ±0,001 mm, pinnaviimistluse Ra 0,1, temperatuurikindluse 1600 ℃.
-
ST.CERA kohandatud pooljuhtseadmete keraamiline plaat
Külmast isostaatilisest pressimisest ja kõrgel temperatuuril paagutamisest valmistatud, seejärel täppistöödeldud ja poleeritud keraamilised varuosad vastavad pooljuhtseadmete rangetele nõuetele oma kulumiskindluse, korrosioonikindluse, väikese soojuspaisumise ja isolatsiooni omaduste tõttu. Keraamika sobib pikka aega mitmesuguste pooljuhtide tootmisseadmete jaoks, mis taluvad kõrget temperatuuri, vaakumit või söövitavat gaasi.
Valmistatud kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidi pulbrist, töödeldud külmisostaatilise pressimise, kõrgtemperatuurse paagutamise ja täppisviimistluse teel, võib see saavutada mõõtmete tolerantsi ±0,001 mm, pinnaviimistluse Ra 0,1, temperatuurikindluse 1600 ℃.
-
12-tolline alumiiniumoksiidi vaakumpadrun 300 mm vahvlite töötlemiseks
St.Cera 12-tolline vaakumpadrun on täppiskonstruktsiooniga valmistatud 99,8% kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidist (Al₂O₃) 300 mm kiipide käsitsemiseks. Padrunil on peenelt sooneline pind (soone laius 0,5–1,0 mm, samm 2–3 mm), et tagada ühtlane vaakumjaotus kogu 300 mm läbimõõdu ulatuses. Tasasus säilib 5 μm piires, mis võimaldab kiipide deformatsioonivaba fikseerimist tükeldamise, tagakülje lihvimise ja kontrolli ajal. Materjali kõrge paindetugevus (361 MPa) ja kõvadus (16 GPa) tagavad pikaajalise mõõtmete stabiilsuse isegi korduvate vaakumtsüklite korral.
-
Pooljuhtide sondiseadmete keraamilised varuosad
Külmast isostaatilisest pressimisest ja kõrgel temperatuuril paagutamisest valmistatud, seejärel täppistöödeldud ja poleeritud keraamilised varuosad vastavad pooljuhtseadmete rangetele nõuetele oma kulumiskindluse, korrosioonikindluse, väikese soojuspaisumise ja isolatsiooni omaduste tõttu. Keraamika sobib pikka aega mitmesuguste pooljuhtide tootmisseadmete jaoks, mis taluvad kõrget temperatuuri, vaakumit või söövitavat gaasi.
Valmistatud kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidi pulbrist, töödeldud külmisostaatilise pressimise, kõrgtemperatuurse paagutamise ja täppisviimistluse teel, võib see saavutada mõõtmete tolerantsi ±0,001 mm, pinnaviimistluse Ra 0,1, temperatuurikindluse 1600 ℃.
-
Keraamiliste plaatide pooljuhtide seadmete kandja
Külmast isostaatilisest pressimisest ja kõrgel temperatuuril paagutamisest valmistatud, seejärel täppistöödeldud ja poleeritud keraamilised varuosad vastavad pooljuhtseadmete rangetele nõuetele oma kulumiskindluse, korrosioonikindluse, väikese soojuspaisumise ja isolatsiooni omaduste tõttu. Keraamika sobib pikka aega mitmesuguste pooljuhtide tootmisseadmete jaoks, mis taluvad kõrget temperatuuri, vaakumit või söövitavat gaasi.
Valmistatud kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidi pulbrist, töödeldud külmisostaatilise pressimise, kõrgtemperatuurse paagutamise ja täppisviimistluse teel, võib see saavutada mõõtmete tolerantsi ±0,001 mm, pinnaviimistluse Ra 0,1, temperatuurikindluse 1600 ℃.
-
Pooljuhtseadmete keraamilised varuosad
Külmast isostaatilisest pressimisest ja kõrgel temperatuuril paagutamisest valmistatud, seejärel täppistöödeldud ja poleeritud keraamilised varuosad vastavad pooljuhtseadmete rangetele nõuetele oma kulumiskindluse, korrosioonikindluse, väikese soojuspaisumise ja isolatsiooni omaduste tõttu. Keraamika sobib pikka aega mitmesuguste pooljuhtide tootmisseadmete jaoks, mis taluvad kõrget temperatuuri, vaakumit või söövitavat gaasi.
Valmistatud kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidi pulbrist, töödeldud külmisostaatilise pressimise, kõrgtemperatuurse paagutamise ja täppisviimistluse teel, võib see saavutada mõõtmete tolerantsi ±0,001 mm, pinnaviimistluse Ra 0,1, temperatuurikindluse 1600 ℃.
-
Kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidi keraamiline tihendusrõngas kõrge temperatuuriga kambri tihendamiseks
St.Cera keraamiline tihendusrõngas on loodud alternatiivina polümeersetele O-rõngastele äärmuslikes keskkondades, kus elastomeerid lagunevad. See 99,8% kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidist (Al₂O₃) valmistatud jäik tihendusrõngas on mõeldud staatilistes tihendusrakendustes – tavaliselt koos pehme metalli või grafiidist tihendiga –, et tagada usaldusväärne vaakumi või gaasi sulgemine temperatuuridel kuni 800 °C ja agressiivses plasma- või keemilises keskkonnas. Materjalil puudub gaaside eraldumine, on suur survetugevus (paindetugevus 361 MPa) ja keemiline inerts (vastupidav halogeenidele, hapetele ja leelistele, välja arvatud HF). Täppislihvitud tihenduspinnad (tasasus ≤5 μm, pinna karedus Ra ≤0,2 μm) tagavad lekkekindla kontakti vastavate metall- või keraamiliste komponentidega.
-
Kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidist kambri fookusrõngas plasma söövitus- ja CVD-süsteemidele
St.Cera kambrifokuseerimisrõngas on plasma söövitus-, CVD- ja PVD-pooljuhtseadmetes kasutatav kriitilise tähtsusega protsessikomplekti komponent. 99,8% kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidist (Al₂O₃) valmistatud rõngas ümbritseb kiibi serva, et piirata plasmat ja optimeerida ioonide nurkjaotust, parandades seeläbi söövituse ühtlust kogu kiibi pinnal. Materjal pakub erakordset plasmakindlust, kõrget dielektrilist tugevust (15×10⁶ V/m) ja termilist stabiilsust kuni 1600 °C, tagades pikaajalise töökindluse agressiivsetes fluori- või klooripõhistes plasmakeskkondades. Täppislihvitud sise- ja välisläbimõõt ning tasasus (≤10 μm) võimaldavad kiibi serva täpset positsioneerimist, vähendades servadefekte ja osakeste teket.
-
Kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidi keraamiline rõngas CVD/PVD protsessikambritele
St.Cera keraamiline rõngas on spetsiaalselt loodud kasutamiseks CVD (keemilise aurustamise-sadestamise) ja PVD (füüsikalise aurustamise-sadestamise) protsessikambrites. See rõngas on valmistatud 99,8% kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidist (Al₂O₃) ning seda kasutatakse kambri vooderdise, fookusrõnga või protsessikomplekti komponendina, et piirata plasmat ja kaitsta kambri seinu erosiooni eest. Materjal pakub suurepärast plasmatakistust, kõrget dielektrilist tugevust (15×10⁶ V/m) ja termilist stabiilsust kuni 1600 °C, tagades pika kasutusea agressiivses fluoripõhises plasmakeskkonnas. Täpsed mõõtmete tolerantsid (±0,05 mm sise-/välisläbimõõdul) ja tasapind (≤10 μm) võimaldavad kiibi serva ühtlast positsioneerimist, parandades sadestamise ühtlust ja vähendades osakeste teket.
-
Poorne keraamiline vaakumpadrun kõverdunud vahvlite käitlemiseks
St.Cera poorne keraamiline padrun on valmistatud kõrge puhtusastmega alumiiniumoksiidist, mille ühtlane avatud poorsus on 30–45% ja pooride suurus vahemikus 10 kuni 100 μm. Erinevalt tavapärastest soontega padrunitest tagab poorne pind jaotatud vaakumi kogu vahvli tagaküljele, hoides tõhusalt kinni kõverdunud, õhukesi või üksikuid vahvleid ilma servade eraldumise või purunemiseta. Õrn vaakum (reguleeritav piiraja abil) hoiab ära ka tagakülje märgistumise.
-
Alumiiniumoksiidil põhinev poorne keraamiline vaakumpadrun õhukeste vahvlite käitlemiseks
St.Cera alumiiniumoksiidil põhinev poorne padrun on valmistatud 99,6% ulatuses kõrge puhtusastmega Al₂O₃-st, mille kontrollitud avatud poorsus on 30–45% ja ühtlane pooride suurus vahemikus 10 kuni 50 μm. Erinevalt soontega padrunitest tagab poorne pind jaotatud vaakumi kogu vahvli tagaküljele, välistades servade märgistamise ja võimaldades üliõhukeste (≤100 μm) või moonutatud vahvlite õrna hoidmist. Materjali paindetugevus on ≥250 MPa ja termiline stabiilsus õhus kuni 400 °C.
-
Alumiiniumoksiidi gaasijaotusplaat CVD/PVD dušipea jaoks
St.Cera gaasijaotusplaat (dušipea) on täppistöödeldud kõrge puhtusastmega 99,8% alumiiniumoksiidkeraamikast. Sellel on rida mikroauke (läbimõõduga 0,3–1,5 mm), mis tagavad ühtlase gaasivoo üle kiibi pinna CVD-, PVD- või ALD-protsesside ajal. Plaadi kõrge dielektriline tugevus (>15×10⁶ V/m) ja plasmatakistus muudavad selle pooljuhtide õhukese kile sadestamiseks hädavajalikuks.
